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用于涂抹化妝品產(chǎn)品的筆式涂抹器系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:39525471發(fā)布日期:2024-09-27 17:01閱讀:35來源:國知局
用于涂抹化妝品產(chǎn)品的筆式涂抹器系統(tǒng)的制作方法

本公開整體涉及化妝品、頭發(fā)護(hù)理、身體護(hù)理和/或皮膚護(hù)理產(chǎn)品,并且更具體地涉及用于涂抹此類產(chǎn)品的系統(tǒng)和方法。


背景技術(shù):

1、化妝品、頭發(fā)護(hù)理、身體護(hù)理和/或皮膚護(hù)理產(chǎn)品可被提供在許多不同的容器中,并且可使用許多不同的方法來涂抹。作為示例,可使用使用者的手指、涂抹刷和/或海綿產(chǎn)品以及其它替代物來涂抹遮瑕產(chǎn)品。當(dāng)涂抹此類產(chǎn)品時,使用者可能難以準(zhǔn)確地分配適當(dāng)量的產(chǎn)品以提供對期望區(qū)域的覆蓋。在從容器中分配太多產(chǎn)品的情況下,過量產(chǎn)品可能難以和/或不可能返回到其容器中,并且最終可能需要被丟棄,從而導(dǎo)致浪費(fèi)產(chǎn)品。相反,在從容器中分配過少產(chǎn)品的情況下,由于需要重復(fù)分配額外的產(chǎn)品,使用者的體驗可能受到不利影響。另外,現(xiàn)有方法可能缺乏定制能力,并且在嘗試特定應(yīng)用技術(shù)時可能難以使用。此外,現(xiàn)有產(chǎn)品在性質(zhì)上可能是一次性的,并且因此可能導(dǎo)致環(huán)境浪費(fèi)。

2、因此,需要改進(jìn)附件,使其具有改進(jìn)的功能。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開范圍內(nèi)的示例涉及一種用于容納和分配化妝品物質(zhì)的涂抹器系統(tǒng)。此類系統(tǒng)可包括:容器,該容器限定腔體并且包括開口的第一端和封閉的第二端;分配機(jī)構(gòu),該分配機(jī)構(gòu)與容器的第一端可操作地聯(lián)接;和涂抹器。分配機(jī)構(gòu)包括限定分配腔的細(xì)長主體,并且還包括能夠由使用者接合的至少一個柔性區(qū)域。涂抹器包括外表面和可容納分配機(jī)構(gòu)的至少一部分的內(nèi)部腔體。在接合分配機(jī)構(gòu)的至少一個柔性區(qū)域時,預(yù)定量的化妝品物質(zhì)被分配到涂抹器的外表面。

2、在一種方法中,該系統(tǒng)可包括第一孔口限制部和第二孔口限制部,該第一孔口限制部定位在分配機(jī)構(gòu)的細(xì)長主體的第一端處,該第二孔口限制部定位在分配機(jī)構(gòu)的細(xì)長主體的第二端處。在這些示例中的一些示例中,第一孔口限制部或第二孔口限制部中的至少一者由液體硅橡膠材料構(gòu)成。此外,在一些示例中,第一孔口限制部和第二孔口限制部可各自包括單向閥,該單向閥選擇性地允許和/或限制化妝品產(chǎn)品流過分配腔。

3、在這些方法中的一些方法中,當(dāng)涂抹器系統(tǒng)處于初始狀態(tài)時,預(yù)定量的化妝品物質(zhì)被設(shè)置在分配腔內(nèi)。在接合分配機(jī)構(gòu)的至少一個柔性區(qū)域時,預(yù)定量的化妝品物質(zhì)通過第二孔口限制部被分配并且分配到涂抹器的內(nèi)部腔體。在一些形式中,在預(yù)定量的化妝品物質(zhì)通過第二孔口限制部被分配時,第二孔口限制部關(guān)閉,從而在分配腔內(nèi)生成真空,該真空使得第二預(yù)定量的化妝品物質(zhì)從容器的腔體通過第一孔口被抽吸并且抽吸到分配腔。

4、在一些形式中,涂抹器包括流通頭,該流通頭將化妝品物質(zhì)限定到其外表面。此外,在一些示例中,涂抹器由開孔泡沫材料構(gòu)成。

5、在一些示例中,預(yù)定量的化妝品物質(zhì)為大約10微升。此外,在一些示例中,分配機(jī)構(gòu)可與容器可移除地聯(lián)接。在這些和其它示例中,涂抹器可與分配機(jī)構(gòu)可移除地聯(lián)接。

6、根據(jù)第二方面,提供了一種用于從涂抹器分配化妝品物質(zhì)的方法。該涂抹器系統(tǒng)包括:容器,該容器限定腔體并且包括開口的第一端和封閉的第二端;分配機(jī)構(gòu),該分配機(jī)構(gòu)與容器的第一端可操作地聯(lián)接;和涂抹器,該涂抹器具有內(nèi)部腔體,該內(nèi)部腔體適于容納分配機(jī)構(gòu)的至少一部分。該方法包括將預(yù)定量的化妝品物質(zhì)設(shè)置在分配機(jī)構(gòu)的分配腔內(nèi)。此外,接合分配機(jī)構(gòu)的至少一個柔性區(qū)域,從而使得預(yù)定量的化妝品物質(zhì)待通過分配腔被分配并且分配到涂抹器。釋放分配機(jī)構(gòu)的至少一個柔性區(qū)域,從而在分配腔內(nèi)形成真空,該真空使得隨后預(yù)定量的化妝品物質(zhì)被抽吸到分配腔內(nèi)。



技術(shù)特征:

1.一種用于容納和分配化妝品物質(zhì)的涂抹器系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂抹器系統(tǒng),所述涂抹器系統(tǒng)還包括第一孔口限制部和第二孔口限制部,所述第一孔口限制部定位在所述分配機(jī)構(gòu)的所述細(xì)長主體的第一端處,所述第二孔口限制部定位在所述分配機(jī)構(gòu)的所述細(xì)長主體的第二端處。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂抹器系統(tǒng),其中所述第一孔口限制部或所述第二孔口限制部中的至少一者由液體硅橡膠材料構(gòu)成。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的涂抹器系統(tǒng),其中所述第一孔口限制部和所述第二孔口限制部各自包括單向閥,所述單向閥適于選擇性地允許和/或限制所述化妝品產(chǎn)品流過所述分配腔。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂抹器系統(tǒng),其中當(dāng)所述涂抹器系統(tǒng)處于初始狀態(tài)時,所述預(yù)定量的化妝品物質(zhì)被設(shè)置在所述分配腔內(nèi),其中在接合所述分配機(jī)構(gòu)的所述至少一個柔性區(qū)域時,所述預(yù)定量的化妝品物質(zhì)通過所述第二孔口限制部被分配并且分配到所述涂抹器的所述內(nèi)部腔體。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂抹器系統(tǒng),其中在所述預(yù)定量的化妝品物質(zhì)通過所述第二孔口限制部被分配時,所述第二孔口限制部關(guān)閉,從而在所述分配腔內(nèi)生成真空,所述真空使得第二預(yù)定量的化妝品物質(zhì)從所述容器的所述腔體通過所述第一孔口被抽吸并且抽吸到所述分配腔。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂抹器系統(tǒng),其中所述涂抹器包括適于將所述化妝品物質(zhì)擴(kuò)散到其外表面的流通頭。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂抹器系統(tǒng),其中所述涂抹器由開孔泡沫材料構(gòu)成。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂抹器系統(tǒng),其中所述預(yù)定量的化妝品物質(zhì)為大約10微升。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂抹器系統(tǒng),其中所述分配機(jī)構(gòu)與所述容器可移除地聯(lián)接。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂抹器系統(tǒng),其中所述涂抹器與所述分配機(jī)構(gòu)可移除地聯(lián)接。

12.一種從涂抹器系統(tǒng)分配化妝品物質(zhì)的方法,所述涂抹器系統(tǒng)包括:容器,所述容器限定腔體并且包括開口的第一端和封閉的第二端;

13.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,所述方法還包括以下步驟:設(shè)置定位在所述分配機(jī)構(gòu)的第一端處的第一孔口限制部和定位在所述分配機(jī)構(gòu)的所述細(xì)長主體的第二端處的第二孔口限制部以選擇性地允許和/或限制所述化妝品產(chǎn)品流過所述分配腔。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中所述第一孔口限制部和所述第二孔口限制部各自包括單向閥。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中所述第一孔口限制部或所述第二孔口限制部中的至少一者由液體硅橡膠材料構(gòu)成。

16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法,其中所述預(yù)定量的化妝品物質(zhì)為大約10微升。


技術(shù)總結(jié)
一種用于容納和分配化妝品物質(zhì)的涂抹器系統(tǒng),該涂抹器系統(tǒng)可包括:容器,該容器限定腔體并且包括開口的第一端和封閉的第二端;分配機(jī)構(gòu),該分配機(jī)構(gòu)與容器的第一端可操作地聯(lián)接;和涂抹器。分配機(jī)構(gòu)包括限定分配腔的細(xì)長主體,并且還包括能夠由使用者接合的至少一個柔性區(qū)域。涂抹器包括外表面和可容納分配機(jī)構(gòu)的至少一部分的內(nèi)部腔體。在接合分配機(jī)構(gòu)的至少一個柔性區(qū)域時,預(yù)定量的化妝品物質(zhì)被分配到涂抹器的外表面。

技術(shù)研發(fā)人員:D·布圭格納特,M·E·萊查諾伊吶
受保護(hù)的技術(shù)使用者:ELC管理有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/9/26
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