背景技術(shù):
1、本發(fā)明大體上涉及形成基于氧化錳的涂層或?qū)拥姆椒?。具體地,本發(fā)明涉及化學(xué)氣相沉積(cvd)工藝,用于在玻璃基材上方形成基于氧化錳的涂層。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、以下描述用于形成氧化錳涂層的化學(xué)氣相沉積工藝的實(shí)施方案。在一實(shí)施方案中,用于形成氧化錳涂層的化學(xué)氣相沉積工藝包括提供移動(dòng)的玻璃基材。氣態(tài)混合物包含含錳化合物和含有氧的分子。一種或多種含錳化合物選自以下:雙(環(huán)戊二烯基)錳(ii),雙(乙基環(huán)戊二烯基)錳(ii),(甲基環(huán)戊二烯基)三羰基錳(i),及其衍生物,而一種或多種含氧前體選自以下:有機(jī)含氧化合物和分子氧。朝向并沿著玻璃基材引導(dǎo)氣態(tài)混合物。氣態(tài)混合物在玻璃基材上方反應(yīng)以在玻璃基材上方形成氧化錳涂層。
2、在一些實(shí)施方案中,玻璃基材是浮法玻璃制造工藝中的玻璃帶。
3、在其他實(shí)施方案中,在處于基本大氣壓力下的玻璃基材的沉積表面上形成氧化錳涂層。
4、在一些實(shí)施方案中,提供涂覆設(shè)備,并在玻璃基材上方形成氧化錳涂層之前通過(guò)該涂覆設(shè)備供入氣態(tài)混合物。
5、當(dāng)氣態(tài)混合物反應(yīng)形成氧化錳涂層時(shí),可在處于基本大氣壓力下的玻璃基材的沉積表面上形成氧化錳涂層。
6、在一些實(shí)施方案中,氧化錳涂層在玻璃基材上方形成連續(xù)層。在其他實(shí)施方案中,氧化錳涂層在玻璃基材上方形成不連續(xù)層,其中氧化錳覆蓋玻璃基材上方一些區(qū)域并且沒(méi)有覆蓋其他區(qū)域。
7、可優(yōu)選沉積氧化錳涂層,使得其具有0.10?μg/cm2以下的錳表面濃度。
8、可存在實(shí)施方案,其中在玻璃基材上預(yù)先形成的涂層上方形成氧化錳涂層。因此,在一些實(shí)施方案中,在玻璃基材上方預(yù)先形成的基于氧化硅的涂層上方形成氧化錳涂層。在其他實(shí)施方案中,在玻璃基材上方預(yù)先形成的基于氧化錫的涂層上方形成氧化錳涂層。基于氧化錫的涂層可為未摻雜的或例如摻雜有氟。
9、在一些實(shí)施方案中,當(dāng)在其上形成氧化錳涂層并且氧化錳涂層是熱解的時(shí),玻璃基材在1100°f(593℃)和1400°f(760℃)之間的溫度下。
10、在一實(shí)施方案中,氣態(tài)混合物中包括有機(jī)含氧化合物,并且有機(jī)含氧化合物包含一種或多種羰基化合物。在具體的實(shí)施方案中,有機(jī)含氧化合物是酯,還可以是具有帶β-氫的烷基基團(tuán)的酯。有機(jī)含氧化合物可為乙酸乙酯、甲酸乙酯、丙酸乙酯、甲酸異丙酯、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯和乙酸叔丁酯中的一種或多種。在尤其優(yōu)選的實(shí)施方案中,有機(jī)含氧化合物是乙酸乙酯。
11、在一些實(shí)施方案中,氣態(tài)混合物包含分子氧。
12、在一些實(shí)施方案中,氣態(tài)混合物包含(甲基環(huán)戊二烯基)三羰基錳(i)或其衍生物或兩者。在優(yōu)選實(shí)施方案中,氣態(tài)混合物包含(甲基環(huán)戊二烯基)三羰基錳(i)。
13、在特別優(yōu)選的實(shí)施方案中,氣態(tài)混合物包含(甲基環(huán)戊二烯基)三羰基錳(i)和有機(jī)含氧化合物包含乙酸乙酯。
1.用于在玻璃基材上方形成氧化錳涂層的化學(xué)氣相沉積工藝,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中玻璃基材是浮法玻璃制造工藝中的玻璃帶。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,還包括提供涂覆設(shè)備,并在玻璃基材上方形成氧化錳涂層之前通過(guò)該涂覆設(shè)備供入氣態(tài)混合物。
4.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中當(dāng)氣態(tài)混合物反應(yīng)形成氧化錳涂層時(shí),在處于基本大氣壓力下的玻璃基材的沉積表面上形成氧化錳涂層。
5.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中氧化錳涂層在玻璃基材上方形成連續(xù)涂覆層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中氧化錳涂層在玻璃基材上方形成非連續(xù)涂覆層。
7.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中氧化錳涂層具有0.10?μg/cm2以下的錳表面濃度。
8.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中在玻璃基材上預(yù)先形成的涂層上方形成氧化錳涂層。
9.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中在玻璃基材上方預(yù)先形成的基于氧化硅的涂層上方形成氧化錳涂層。
10.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中在玻璃基材上方預(yù)先形成的基于氧化錫的涂層上方形成氧化錳涂層。
11.根據(jù)權(quán)利要求10中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中基于氧化錫的涂層摻雜有氟。
12.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中在其上形成氧化錳涂層時(shí),玻璃基材在1100°f(593℃)和1400°f(760℃)之間的溫度下。
13.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中氧化錳涂層是熱解的。
14.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中氣態(tài)混合物中包括有機(jī)含氧化合物,并且有機(jī)含氧化合物包含一種或多種羰基化合物。
15.根據(jù)權(quán)利要求14中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中有機(jī)含氧化合物是酯。
16.根據(jù)權(quán)利要求15中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中有機(jī)含氧化合物是具有帶β-氫的烷基基團(tuán)的酯。
17.根據(jù)權(quán)利要求14或權(quán)利要求15中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中有機(jī)含氧化合物是乙酸乙酯、甲酸乙酯、丙酸乙酯、甲酸異丙酯、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯和乙酸叔丁酯中的一種或多種。
18.根據(jù)權(quán)利要求14、15和17中任一項(xiàng)所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中有機(jī)含氧化合物是乙酸乙酯。
19.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中氣態(tài)混合物包含分子氧。
20.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中氣態(tài)混合物包含(甲基環(huán)戊二烯基)三羰基錳(i)或其衍生物或者兩者。
21.根據(jù)任何前述權(quán)利要求中所述的化學(xué)氣相沉積工藝,其中氣態(tài)混合物包含(甲基環(huán)戊二烯基)三羰基錳(i)。