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可重構(gòu)型x射線能譜探測方法及探測器像素單元結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號:10611848閱讀:593來源:國知局
可重構(gòu)型x射線能譜探測方法及探測器像素單元結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光電探測器領(lǐng)域,為解決現(xiàn)有的能譜CT探測器能量區(qū)分度不足的問題,提升能譜CT成像的精度,通過一次曝光,即可解析得到多個不同能量段的X射線的衰減信息。本發(fā)明采用的技術(shù)方案是,可重構(gòu)型X射線能譜探測方法及探測器像素單元結(jié)構(gòu),作為探測器主體的襯底部分用于完成X射線的接收及光電信號的轉(zhuǎn)化,襯底部分尺寸以全部吸收待探測能譜范圍內(nèi)的X射線光子為宜;襯底部分兩表面為熱氧化生長的氧化物,所述氧化物實現(xiàn)襯底部分與電極的電絕緣隔離;所述電極通過金屬導(dǎo)線連接至?xí)r序控制單元,實現(xiàn)電荷包的順序讀出;還設(shè)置有用于控制X射線曝光時間的遮光板。本發(fā)明主要應(yīng)用于半導(dǎo)體光電探測器設(shè)計制造場合。
【專利說明】
可重構(gòu)型X射線能譜探測方法及探測器像素單元結(jié)構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光電探測器領(lǐng)域,尤其涉及對醫(yī)用X射線能譜的探測?!颈尘凹夹g(shù)】
[0002]傳統(tǒng)醫(yī)用螺旋CT(Computed Tomography,電子計算機斷層掃描)的探測器基于X射線的平均衰減效應(yīng)進(jìn)行探測,重建后的圖像受射束硬化效應(yīng)影響嚴(yán)重而無法區(qū)分人體內(nèi)相似組織結(jié)構(gòu)。目前,隨著探測器技術(shù)的不斷發(fā)展,對物質(zhì)區(qū)分性更強的能譜CT越來越成為人們研究的焦點。能譜CT基于人體組織對不同光子能量吸收能力的差異,利用多組X射線能量的衰減特性進(jìn)行圖像重建,能提供比常規(guī)CT更多的影像信息。能譜CT成像的關(guān)鍵技術(shù)就是利用探測器獲得多種能量的X射線在人體內(nèi)的衰減信息,具有高精度能譜解析能力的X射線能譜探測器是能譜CT極其重要的部分。
[0003]目前,醫(yī)療能譜CT較常用的X射線探測器是間接型探測器,主要利用熒光閃爍體材料把X射線轉(zhuǎn)換成可見光,再用可見光探測器進(jìn)行探測。該方法在轉(zhuǎn)換過程中,會不可避免地造成X射線能量損失,而且對X射線的能量區(qū)分度較低,如當(dāng)前醫(yī)學(xué)能譜CT中采用較多的雙能探測器只能對X射線的高能和低能組分進(jìn)行分析,而且還受射束硬化效應(yīng)影響嚴(yán)重,很難滿足利用多能量成像的能譜CT的實際醫(yī)學(xué)需求。本發(fā)明面向醫(yī)用能譜CT實際應(yīng)用領(lǐng)域, 提出了一種高精度的X射線能譜探測器像素結(jié)構(gòu),并基于此結(jié)構(gòu)提出了一種可重構(gòu)的X射線能譜分層探測方法,通過一次曝光即可同時獲得多種能量組分的X射線的衰減信息,可為醫(yī)用能譜CT成像提供更多的參數(shù)信息,充分滿足能譜CT對物質(zhì)定性和定量分析的要求。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,解決現(xiàn)有的能譜CT探測器能量區(qū)分度不足的問題,提升能譜CT成像的精度,本發(fā)明提出了一種高精度的X射線能譜探測器像素結(jié)構(gòu)及相應(yīng)的能譜分層探測方法。通過一次曝光,即可解析得到多個不同能量段的X射線的衰減信息。利用該探測器像素結(jié)構(gòu)及能譜探測方法,能夠在減小病人承受輻射量的同時獲得更高分辨率、更高精度的臨床圖像。本發(fā)明采用的技術(shù)方案是,可重構(gòu)型X射線能譜探測器像素單元結(jié)構(gòu), 作為探測器主體的襯底部分用于完成X射線的接收及光電信號的轉(zhuǎn)化,襯底部分尺寸以全部吸收待探測能譜范圍內(nèi)的X射線光子為宜;襯底部分上表面為熱氧化生長的氧化物,所述氧化物實現(xiàn)襯底部分與電極的電絕緣隔離;所述電極為多晶硅或金屬材料制成,且正負(fù)對應(yīng)離散排布在襯底部分下表面及氧化物上表面,其中所有的正電極分布在同一表面,所有的負(fù)電極分布在另一表面;所述正電極按相鄰依次排列關(guān)系分成若干層,每層正電極數(shù)目相同;所述若干層中各層的第一個正電極都通過同一根金屬導(dǎo)線連接至?xí)r序控制單元,所述若干層中各層的第二個正電極也都通過另一根金屬導(dǎo)線連接至?xí)r序控制單元,各層中其余電極與時序控制單元的連接以此類推;所述時序控制單元通過控制相鄰電極高低電平周期性變化,實現(xiàn)電荷包的順序讀出;還設(shè)置有用于控制X射線曝光時間的遮光板,遮光板打開X射線進(jìn)入襯底部分,遮光板關(guān)閉X射線被遮擋不能進(jìn)入襯底部分。
[0005]電極的三維尺寸、個數(shù)及電極間的間距視探測器襯底的尺寸及光生電荷的收集效率而定,順序排布的電極應(yīng)滿足完全收集曝光后光生電荷的要求。
[0006]所述襯底部分的構(gòu)成材料選擇輕摻雜的P型硅,或者碲鋅鎘、碲化鎘等半導(dǎo)體中的一種。
[0007]順序排布的電極應(yīng)滿足完全收集曝光后光生電荷的要求具體是指,在X射線結(jié)束曝光后,開始進(jìn)行光生電荷的轉(zhuǎn)移,在探測器內(nèi)光生電荷在電極電壓的控制下以電荷包的形式在相鄰電極間轉(zhuǎn)移,具體時序:在tl時刻,編號為I的正電極設(shè)置為高電平,電荷會在曝光期間收集到該正電極下的勢阱中;在t2時刻,編號為I的正電極設(shè)置為1/2倍的高電平,編號為2的正電極設(shè)置為高電平,兩個電極之間存在勢皇,在此過程中編號為I的正電極收集的電荷將不斷流向編號為2的正電極;在t3時刻,編號為I的正電極下的電子將全部轉(zhuǎn)移至編號為2的正電極下的勢阱中,編號為3的正電極設(shè)置為高電平;依此類推,直至將收集的光生電荷依次轉(zhuǎn)移到位于最邊上的讀出電路。
[0008]可重構(gòu)型X射線能譜探測方法,借助于前述探測器像素單元結(jié)構(gòu)實現(xiàn),步驟如下:
[0009]Stepl:探測器復(fù)位:每完成一次X射線的探測過程,都需復(fù)位重置探測器,以便開啟下一次的X射線束探測;
[0010]step2: X射線曝光:打開X射線遮光板進(jìn)行曝光,調(diào)整探測器方位,使射線自探測器的側(cè)邊緣射入探測器像素單元結(jié)構(gòu)襯底部分,滿足重建圖像要求的時間后關(guān)閉遮光板,停止射線的照射;
[0011]Step3:光生電荷收集:在X射線開始照射后將所有編號為I的正電極置為高電平,將負(fù)電極全部置為幅值與所述高電平相同的負(fù)電平,在曝光期間實現(xiàn)光生電荷的收集,遮光板關(guān)閉后電荷收集過程結(jié)束;
[0012]step4:光生電荷轉(zhuǎn)移。在X射線結(jié)束曝光后,開始進(jìn)行光生電荷的轉(zhuǎn)移,在探測器內(nèi)光生電荷在電極電壓的控制下以電荷包的形式在相鄰電極間轉(zhuǎn)移,具體時序:在11時刻,編號為I的正電極設(shè)置為高電平,電荷會在曝光期間收集到該正電極下的勢阱中;在t2時亥IJ,編號為I的正電極設(shè)置為1/2倍的高電平,編號為2的正電極設(shè)置為高電平,兩個電極之間存在勢皇,在此過程中編號為I的正電極收集的電荷將不斷流向編號為2的正電極;在t3時刻,編號為I的正電極下的電子將全部轉(zhuǎn)移至編號為2的正電極下的勢講中,編號為3的正電極設(shè)置為高電平;依此類推,直至將收集的光生電荷依次轉(zhuǎn)移到位于最邊上的讀出電路;
[0013]Step5-1:光生電荷分組處理:針對能譜解析過程,在電荷轉(zhuǎn)移讀出后,為了得到符合要求的能譜解析結(jié)果,不同深度的半導(dǎo)體內(nèi)產(chǎn)生的光生電荷需要進(jìn)行分組累加,電荷分組的形式取決于待解析的X射線的能譜分段情況及射線在半導(dǎo)體中的吸收情況;
[0014]Step5-2:光生電荷重構(gòu)分組:為了得到最優(yōu)的能譜解析結(jié)果,設(shè)η種可重構(gòu)電荷分組方案,在Step5.1對電荷處理的基礎(chǔ)上,按照事先設(shè)定的η種分組方案,調(diào)整各個電極下電荷包的分組狀態(tài),即電荷包從屬的組次,改變各組內(nèi)電荷的總量后再將各組電荷累加,并分別存儲各自的累加結(jié)果。當(dāng)所有的η種重構(gòu)方案都被實施后,結(jié)束此電荷重構(gòu)分組處理步驟;
[0015]Step6:能譜解析:根據(jù)η種分組方案,通過各組光生電荷的總量,倒推解析出各區(qū)間內(nèi)X射線的能譜衰減信息,選擇最優(yōu)的解析結(jié)果重建圖像。
[0016]待解析的分段能譜有幾種,即將半導(dǎo)體內(nèi)的光生電荷順序組合幾組,電荷分組的位置以相應(yīng)能量段的X射線在該半導(dǎo)體厚度內(nèi)完全吸收為宜。
[0017]本發(fā)明的特點及有益效果是:
[0018]本發(fā)明提出了一種高精度的X射線能譜探測器像素結(jié)構(gòu),并提出了一種利用此結(jié)構(gòu)重構(gòu)探測X射線能譜信息的方法,實現(xiàn)了 X射線能譜的分層探測。經(jīng)過一次曝光,即可解析得到多種分段的X射線能譜衰減信息;并且能夠針對不同射線源及不同的能譜解析精度要求,動態(tài)可重構(gòu)地調(diào)整電荷的分組。此探測方法不僅降低了患者承受的輻射劑量,更提升了能譜CT成像的質(zhì)量,適用于醫(yī)用X射線的多能譜組分的探測。
【附圖說明】
:
[0019]圖1本發(fā)明所提出的X射線能譜探測器的三維像素結(jié)構(gòu)。
[0020]圖2X射線能譜探測方法的流程圖。
[0021]圖3電荷收集轉(zhuǎn)移時序圖。
[0022]圖4像素結(jié)構(gòu)平面圖。
[0023]圖5半導(dǎo)體內(nèi)電荷動態(tài)分組示意圖。
【具體實施方式】
[0024]復(fù)合X射線穿過半導(dǎo)體時,由于光電效應(yīng)、康普頓效應(yīng)及電子對效應(yīng)等作用,X射線(即入射光子)將在半導(dǎo)體中被吸收并產(chǎn)生光生電荷,不同能量的X射線強度遵循指數(shù)衰減規(guī)律,低能的X射線將先被吸收,高能的X射線吸收較緩慢。本發(fā)明基于上述X射線的吸收規(guī)律,提出了一種邊緣入射型X射線能譜探測器像素結(jié)構(gòu),并提出了一種利用此像素結(jié)構(gòu)探測X射線分段能譜信息的方法。
[0025]本發(fā)明提出的探測器像素結(jié)構(gòu)具體實施方案如下:
[0026]基本的三維探測器像素結(jié)構(gòu)如圖1所示,其中101為探測器襯底部分,襯底材料可以選擇輕摻雜的P型硅,也可以是其他合適尺寸的碲鋅鎘、碲化鎘等半導(dǎo)體,其作為探測器的主體主要完成X射線的接收及光電信號的轉(zhuǎn)化,襯底尺寸以全部吸收待探測能譜范圍內(nèi)的X射線光子為宜;圖中102部分為熱氧化生長的合適厚度的氧化物,主要實現(xiàn)襯底與電極的電絕緣隔離;圖中1 3部分為多晶硅或金屬材料的電極,其離散排布方式如圖所示,每個電極都通過金屬導(dǎo)線連接至?xí)r序控制單元105,時序控制單元通過控制相鄰電極高低電平周期性變化,實現(xiàn)電荷包的順序讀出。電極的三維尺寸、個數(shù)及電極間的間距視探測器襯底的尺寸及光生電荷的收集效率而定,順序排布的電極應(yīng)滿足完全收集曝光后光生電荷的要求;104部分為背面電極,尺寸及分布情況可參考103電極部分;106結(jié)構(gòu)為遮光板,主要作用是控制X射線的曝光時間。以上為本發(fā)明所提出的適用于可重構(gòu)的X射線能譜探測方法的探測器像素結(jié)構(gòu)。
[0027]基于上述探測器像素結(jié)構(gòu),本發(fā)明提出的X射線能譜探測方法的流程如圖2所示,具體實施方案如下:
[0028]Stepl:探測器復(fù)位。每完成一次X射線的探測過程,都需復(fù)位重置探測器,以便開啟下一次的X射線束探測??刹捎脤⑷侩姌O電位置零的方式復(fù)位,但不僅限于此種方法。
[0029]Step2:X射線曝光。打開X射線遮光板進(jìn)行曝光,調(diào)整探測器方位,使射線自探測器的側(cè)邊緣射入探測器襯底101部分,如圖1所示,滿足重建圖像要求的時間后關(guān)閉遮光板,停止射線的照射。
[0030]Step3:光生電荷收集。在X射線開始照射后將所有編號為Vl的電極置為高電平(此處取高電平為5¥為例,但不僅限于此電平標(biāo)準(zhǔn)),將背面電極Vss全部置為-5v(但不僅限于此電平標(biāo)準(zhǔn)),在曝光期間實現(xiàn)光生電荷的收集,遮光板關(guān)閉后電荷收集過程結(jié)束。
[0031 ] Step4:光生電荷轉(zhuǎn)移。在X射線結(jié)束曝光后,開始進(jìn)行光生電荷的轉(zhuǎn)移,在探測器內(nèi)光生電荷主要在電極電壓的控制下以電荷包的形式在相鄰電極間轉(zhuǎn)移。此處以三相轉(zhuǎn)移邏輯為例(但不僅限于此邏輯的電荷轉(zhuǎn)移方式),具體時序如圖2所示:在tl時刻,Vl電極設(shè)置為高電平,電荷會在曝光期間收集到Vl下的勢阱中;在t2時刻,Vl設(shè)置為1/2倍的高電平,v2電極設(shè)置為高電平,兩個電極之間存在勢皇,在此過程中Vl收集的電荷將不斷流向v2;在t3時刻,Vl電極下的電子將全部轉(zhuǎn)移至v2電極下的勢阱中,v3設(shè)置為高電平;t4時刻,v2電極下的電荷不斷向v3轉(zhuǎn)移,至t5時刻v2電荷全部轉(zhuǎn)移至v3電極勢阱中。至此完成了一次完整的三相控制電荷轉(zhuǎn)移過程。重復(fù)此步驟,可將收集的光生電荷依次轉(zhuǎn)移到最右端的讀出電路。
[0032]Step5-1:光生電荷分組處理。針對能譜解析過程,在電荷轉(zhuǎn)移讀出后,為了得到符合要求的能譜解析結(jié)果,不同深度的半導(dǎo)體內(nèi)產(chǎn)生的光生電荷需要進(jìn)行分組累加。電荷分組的形式取決于待解析的X射線的能譜分段情況及射線在半導(dǎo)體中的吸收情況。一般情況下,待解析的分段能譜有幾種,即將半導(dǎo)體內(nèi)的光生電荷順序組合幾組,電荷分組的位置以相應(yīng)能量段的X射線在該半導(dǎo)體厚度內(nèi)完全吸收為宜。
[0033]Step5-2:光生電荷重構(gòu)分組。為了得到最優(yōu)的能譜解析結(jié)果,本發(fā)明針對被探測對象的射線吸收特性,事先提供了η種與之相適應(yīng)的可重構(gòu)電荷分組方案。在Step5.1對電荷處理的基礎(chǔ)上,按照事先設(shè)定的η種分組方案,調(diào)整各個電極下電荷包的分組狀態(tài),即電荷包從屬的組次,改變各組內(nèi)電荷的總量后再將各組電荷累加并分別存儲各自的累加結(jié)果。當(dāng)所有的η種重構(gòu)方案都被實施后,結(jié)束此電荷重構(gòu)分組處理步驟;
[0034]射線曝光后,針對各個勢阱中的光生電荷包,按照η種預(yù)設(shè)方案進(jìn)行順序分組,利用連續(xù)的多個電極下勢阱中的電荷來求解一段射線能譜,每組電荷包數(shù)量的不同,也就意味著求解的能譜段存在差異。
[0035]Step6:能譜解析。根據(jù)η種分組方案,通過各組光生電荷的總量,倒推解析出各區(qū)間內(nèi)X射線的能譜衰減信息,選擇最優(yōu)的解析結(jié)果重建圖像。
[0036]通過以上六步,便可利用本發(fā)明所提出的探測器像素結(jié)構(gòu)完成醫(yī)用X射線分段能譜信息的重構(gòu)探測。
[0037]本發(fā)明所提出的X射線能譜CT探測器像素結(jié)構(gòu)平面結(jié)構(gòu)如圖4所示,最佳實施方案以長度為5cm的Si半導(dǎo)體為例,厚度TH和寬度Width均取0.5mm,其上淀積氧化物0.005mm的Si02,最后刻蝕多晶硅及完成電極互連,其中多晶硅電極的厚度為0.01mm,電極長度為0.4mm,電極寬度為0.1mm,相鄰電極間隔為0.001mm。探測器像素結(jié)構(gòu)利用埋溝工藝降低表面陷阱或缺陷產(chǎn)生的暗電流。若待探測的X射線能量值超過lOOKev,探測器的長度應(yīng)超過5cm。本發(fā)明提出的探測器結(jié)構(gòu)并不僅限于此種襯底材料及電極分布方案,還可以采用CZT、CdTe等其他半導(dǎo)體材料。
[0038]基于此結(jié)構(gòu)的X射線能譜探測過程如上六步所述,主要包括像素復(fù)位、X射線曝光、光生電荷收集、光生電荷轉(zhuǎn)移、電荷重構(gòu)分組處理及能譜解析等。此處以待解析三段連續(xù)能譜信息0-20Kev,20-40Kev,40-60Kev為例,X射線曝光后,不同能量的射線在半導(dǎo)體的不同深度產(chǎn)生數(shù)量不一的光生電荷,由電極下的勢阱完成各層電荷的收集,并按照如圖3所示的電荷轉(zhuǎn)移時序?qū)崿F(xiàn)電荷的分層讀出;參照待解析的X射線分段能譜信息及射線吸收規(guī)律,將半導(dǎo)體中的光生電荷按順序劃分為三組,如圖5所示,三組分別為0-0.5cm,0.5-2.0cm,2.0-3.5cm各段內(nèi)的光生電荷總數(shù)。根據(jù)能譜解析的精度及成像質(zhì)量,還可以再按照預(yù)先設(shè)定的5種分組方案,動態(tài)調(diào)整5次電極下電荷包的分組狀態(tài)(即調(diào)整電荷包從屬的組次),每次調(diào)整后都將各個組內(nèi)的電荷累加并存儲。當(dāng)所有的5種重構(gòu)方案都被實施后,結(jié)束此過程,最后通過最優(yōu)厚度的半導(dǎo)體內(nèi)的光生電荷總數(shù)倒推出X射線的分段能譜信息。本發(fā)明提供的能譜探測器像素結(jié)構(gòu)及與其相適應(yīng)的能譜探測方法,能提供更多組分的X射線能量衰減信息,可被應(yīng)用于醫(yī)用能譜CT成像領(lǐng)域。
【主權(quán)項】
1.一種可重構(gòu)型X射線能譜探測器像素單元結(jié)構(gòu),其特征是,作為探測器主體的襯底部 分用于完成X射線的接收及光電信號的轉(zhuǎn)化,襯底部分尺寸以全部吸收待探測能譜范圍內(nèi) 的X射線光子為宜;襯底部分上表面為熱氧化生長的氧化物,所述氧化物實現(xiàn)襯底部分與電 極的電絕緣隔離;所述電極為多晶硅或金屬材料制成,且正負(fù)對應(yīng)離散排布在襯底部分下 表面及氧化物上表面,其中所有的正電極分布在同一表面,所有的負(fù)電極分布在另一表面; 所述正電極按相鄰依次排列關(guān)系分成若干層,每層正電極數(shù)目相同;所述若干層中各層的 第一個正電極都通過同一根金屬導(dǎo)線連接至?xí)r序控制單元,所述若干層中各層的第二個正 電極也都通過另一根金屬導(dǎo)線連接至?xí)r序控制單元,各層中其余電極與時序控制單元的連 接以此類推;所述時序控制單元通過控制相鄰電極高低電平周期性變化,實現(xiàn)電荷包的順 序讀出;還設(shè)置有用于控制X射線曝光時間的遮光板,遮光板打開X射線進(jìn)入襯底部分,遮光 板關(guān)閉X射線被遮擋不能進(jìn)入襯底部分。2.如權(quán)利要求1所述的可重構(gòu)型X射線能譜探測器像素單元結(jié)構(gòu),其特征是,電極的三 維尺寸、個數(shù)及電極間的間距視探測器襯底的尺寸及光生電荷的收集效率而定,順序排布 的電極應(yīng)滿足完全收集曝光后光生電荷的要求。3.如權(quán)利要求1所述的可重構(gòu)型X射線能譜探測器像素單元結(jié)構(gòu),其特征是,所述襯底 部分的構(gòu)成材料選擇輕摻雜的P型硅、碲鋅鎘或碲化鎘半導(dǎo)體中的一種。4.如權(quán)利要求1所述的可重構(gòu)型X射線能譜探測器像素單元結(jié)構(gòu),其特征是,順序排布 的電極應(yīng)滿足完全收集曝光后光生電荷的要求具體是指,在X射線結(jié)束曝光后,開始進(jìn)行光 生電荷的轉(zhuǎn)移,在探測器內(nèi)光生電荷在電極電壓的控制下以電荷包的形式在相鄰電極間轉(zhuǎn) 移,具體時序:在tl時刻,編號為1的正電極設(shè)置為高電平,電荷會在曝光期間收集到該正電 極下的勢阱中;在t2時刻,編號為1的正電極設(shè)置為1/2倍的高電平,編號為2的正電極設(shè)置 為高電平,兩個電極之間存在勢皇,在此過程中編號為1的正電極收集的電荷將不斷流向編 號為2的正電極;在t3時刻,編號為1的正電極下的電子將全部轉(zhuǎn)移至編號為2的正電極下的 勢阱中,編號為3的正電極設(shè)置為高電平;依此類推,直至將收集的光生電荷依次轉(zhuǎn)移到位 于最邊上的讀出電路。5.—種可重構(gòu)型X射線能譜探測方法,其特征是,借助于權(quán)利要求1所述探測器像素單 元結(jié)構(gòu)實現(xiàn),步驟如下:Stepl:探測器復(fù)位:每完成一次X射線的探測過程,都需復(fù)位重置探測器,以便開啟下 一次的X射線束探測;Step2: X射線曝光:打開X射線遮光板進(jìn)行曝光,調(diào)整探測器方位,使射線自探測器的側(cè) 邊緣射入探測器像素單元結(jié)構(gòu)襯底部分,滿足重建圖像要求的時間后關(guān)閉遮光板,停止射 線的照射;Step3:光生電荷收集:在X射線開始照射后將所有編號為1的正電極置為高電平,將負(fù) 電極全部置為幅值與所述高電平相同的負(fù)電平,在曝光期間實現(xiàn)光生電荷的收集,遮光板 關(guān)閉后電荷收集過程結(jié)束;Step4:光生電荷轉(zhuǎn)移。在X射線結(jié)束曝光后,開始進(jìn)行光生電荷的轉(zhuǎn)移,在探測器內(nèi)光 生電荷在電極電壓的控制下以電荷包的形式在相鄰電極間轉(zhuǎn)移,具體時序:在tl時刻,編號 為1的正電極設(shè)置為高電平,電荷會在曝光期間收集到該正電極下的勢阱中;在t2時刻,編 號為1的正電極設(shè)置為1/2倍的高電平,編號為2的正電極設(shè)置為高電平,兩個電極之間存在勢皇,在此過程中編號為1的正電極收集的電荷將不斷流向編號為2的正電極;在t3時刻,編 號為1的正電極下的電子將全部轉(zhuǎn)移至編號為2的正電極下的勢講中,編號為3的正電極設(shè) 置為高電平;依此類推,直至將收集的光生電荷依次轉(zhuǎn)移到位于最邊上的讀出電路;Step5-1:光生電荷分組處理:針對能譜解析過程,在電荷轉(zhuǎn)移讀出后,為了得到符合要 求的能譜解析結(jié)果,不同深度的半導(dǎo)體內(nèi)產(chǎn)生的光生電荷需要進(jìn)行分組累加,電荷分組的 形式取決于待解析的X射線的能譜分段情況及射線在半導(dǎo)體中的吸收情況;Step5-2:光生電荷重構(gòu)分組:為了得到最優(yōu)的能譜解析結(jié)果,設(shè)n種可重構(gòu)電荷分組方 案,在Step5-1對電荷處理的基礎(chǔ)上,按照事先設(shè)定的n種分組方案,調(diào)整各個電極下電荷包 的分組狀態(tài),即電荷包從屬的組次,改變各組內(nèi)電荷的總量后再將各組電荷累加,并分別存 儲各自的累加結(jié)果,當(dāng)所有的n種重構(gòu)方案都被實施后,結(jié)束此電荷重構(gòu)分組處理步驟; Step6:能譜解析:根據(jù)n種分組方案,通過各組光生電荷的總量,倒推解析出各區(qū)間內(nèi)X 射線的能譜衰減信息,選擇最優(yōu)的解析結(jié)果重建圖像。6.如權(quán)利要求5所述的可重構(gòu)型X射線能譜探測方法,其特征是,待解析的分段能譜有 幾種,即將半導(dǎo)體內(nèi)的光生電荷順序組合幾組,電荷分組的位置以相應(yīng)能量段的X射線在該 半導(dǎo)體厚度內(nèi)完全吸收為宜。
【文檔編號】H01L31/115GK105974460SQ201610311377
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年5月11日
【發(fā)明人】史再峰, 孟慶振, 楊浩宇, 曹清潔, 張嘉平
【申請人】天津大學(xué)
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