技術(shù)編號(hào)：39526837
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請(qǐng)涉及化工設(shè)備，具體而言，本申請(qǐng)涉及一種加氫純化裝置。背景技術(shù)、電子生產(chǎn)工業(yè)中，需要用到特種氣體，如高純的氧氣、氮?dú)狻⒍趸?、氬氣和丙烷等等，這些特種氣體的純度要遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于普通的工業(yè)氣體。、高純度的氫氣、氮?dú)?、稀有氣體、氧氣等氣體是發(fā)光二極管、大規(guī)模集成電路等半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要原料，這些氣體主要作為半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中的載氣、保護(hù)氣，其純度對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量和性能至關(guān)重要。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的飛速發(fā)展，對(duì)氣體純度的要求越來越高。例如高純氮可以用作化學(xué)氣相沉淀時(shí)的載氣。另外，高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發(fā)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。