技術編號:39729749
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種高功率(hp)發(fā)生器,其配置成能夠向容性負載,特別是向等離子體過程提供具有高電壓值和/或高電流的高功率脈沖。本發(fā)明還涉及一種為等離子體過程提供高功率脈沖的方法。背景技術、容性負載是指具有容性部分的負載,這意味著該負載上的電壓上升意味著高電流能力。在這些情況下,電容部分可以至少為pf,優(yōu)選為pf或更高,例如在pf左右。這可能是等離子體處理過程中的負載,例如,等離子體處理應用。、一些等離子體處理應用,如蝕刻或?qū)映练e,需要高電壓(hv)、高頻(hf)、矩形、不對稱的...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。