本發(fā)明涉及電泳或噴涂領(lǐng)域,具體地說是一種通過表面預(yù)置氧化物納米顆粒促使m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法及應(yīng)用。
背景技術(shù):
在高溫下金屬間化合物m-al(m=ni、ti或fe)等能夠生成保護(hù)性的al2o3膜,如ni2al3和nial等已廣泛地用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)某些零部件的高溫防護(hù)涂層。然而當(dāng)使用溫度低于1100℃時(shí),在初始氧化階段所形成的al2o3膜往往是由γ和(或)θ等亞穩(wěn)定相所組成。隨后,這些亞穩(wěn)定al2o3膜將向穩(wěn)定態(tài)α-al2o3轉(zhuǎn)變。這一轉(zhuǎn)變過程將顯著地影響氧化鋁膜的性能:(1)氧化初期所生成的亞穩(wěn)定氧化鋁膜抗高溫氧化的性能較穩(wěn)定態(tài)差。(2)亞穩(wěn)定al2o3向穩(wěn)定態(tài)al2o3轉(zhuǎn)變伴隨著~10%的體積收縮,會(huì)引起氧化鋁膜的開裂。將嚴(yán)重影響ni2al3和nial等涂層的抗高溫氧化的性能,并降低涂層的使用壽命。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種在m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法及應(yīng)用,在鋁化物涂層或基體上預(yù)置一層剛玉結(jié)構(gòu)氧化物納米顆粒,進(jìn)而改善m-al金屬間化合物涂層或基體的抗高溫氧化的性能。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:
一種在m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法,m-al金屬間化合物為鋁化物nial、ni2al3或feal,在鋁化物表面均勻預(yù)置一層剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆粒,該層由氧化物納米顆粒相互疏松地堆積疊加而成。
所述的在m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法,該納米顆粒層的厚度為1~10μm(優(yōu)選2~5μm)。
所述的在m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法,剛玉結(jié)構(gòu)氧化物納米顆粒為cr2o3、α-fe2o3、α-al2o3、ti2o3、yeo3或v2o3。
所述的在m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法,以m-al金屬間 化合物為基材,采用電泳沉積技術(shù)在其表面預(yù)置一層剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆粒,將剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆粒彌散到電泳液中。
所述的在m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法,采用電泳沉積技術(shù)在鋁化物表面預(yù)置一層剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆粒后,使得鋁化物在<1100℃空氣中氧化時(shí),α-al2o3在氧化初期直接形成。
所述的在m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法,以m-al金屬間化合物為基材,采用噴涂技術(shù)在其表面預(yù)置一層剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆粒,將剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆粒彌散到酒精溶液并注入噴嘴中,在氣流下將氧化物噴射到基體表面。
所述的在m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法,采用噴涂技術(shù)在鋁化物表面預(yù)置一層剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆粒后,使得鋁化物在<1100℃空氣中氧化時(shí),α-al2o3在氧化初期直接形成。
所述在m-al金屬間化合物上直接熱生長(zhǎng)α-al2o3的方法的應(yīng)用,采用該方法顯著改善m-al金屬間化合物涂層或基材的抗高溫氧化的性能,提高其使用壽命。
本發(fā)明的設(shè)計(jì)思想是:
為了提高m-al金屬間化合物在低于1100℃時(shí)的抗高溫氧化的性能,希望在氧化初期直接熱生長(zhǎng)α-al2o3,避免亞穩(wěn)定al2o3的生長(zhǎng)。本發(fā)明利用cr2o3、α-fe2o3、α-al2o3、ti2o3、yeo3或v2o3等氧化物具有與α-al2o3相同的剛玉結(jié)構(gòu)的特點(diǎn),將這些剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆粒預(yù)置一薄層在m-al金屬間化合物表面。在氧化初期這些氧化物納米顆粒將作為α-al2o3的形核點(diǎn),降低α-al2o3的形核功,使α-al2o3將直接生長(zhǎng)。如果采用電泳或噴涂技術(shù)能夠在m-al金屬間化合物表面預(yù)置一層密集的剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆粒,將有足夠的α-al2o3的形核點(diǎn)促進(jìn)α-al2o3的熱生長(zhǎng),從而避免亞穩(wěn)定的al2o3生長(zhǎng)。
與未預(yù)置m-al金屬間化合物相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和積極效果如下:
1.能直接形成保護(hù)性α-al2o3氧化膜。本發(fā)明在m-al金屬間化合物涂層或基體上采用電泳(噴涂)技術(shù),預(yù)沉積一層剛玉結(jié)構(gòu)氧化物納米顆粒,促使α-al2o3直接在氧化初期形成。跳過亞穩(wěn)定al2o3向穩(wěn)定態(tài)al2o3轉(zhuǎn)變,能夠有效地避免由于al2o3相轉(zhuǎn)變體積收縮而引起的氧化鋁膜開裂。從而提高了m-al金屬間化合物的抗高溫氧化的性能。
2.工藝簡(jiǎn)單、成熟、成本低。由于電泳(噴涂)是成熟的工藝,利用現(xiàn)有的電泳設(shè)備或噴涂設(shè)備,在槽液或噴槍中加入少量的剛玉結(jié)構(gòu)氧化物納米顆粒,就可制成一薄層的預(yù)置層,不需要其它過多投資。
附圖說明
圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的在ni2al3涂層上采用電泳預(yù)置cr2o3的表面形貌。
圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的在ni2al3涂層上采用電泳預(yù)置cr2o3的截面形貌。
圖3為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的電泳預(yù)置cr2o3的ni2al3涂層和一個(gè)比較例ni2al3涂層1000℃空氣中暴露20h后的氧化增重比較圖。
圖4為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的電泳預(yù)置cr2o3的ni2al3涂層和一個(gè)比較例ni2al3涂層1000℃空氣中暴露20h后的氧化增重平方與時(shí)間曲線比較圖。
圖5為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的電泳預(yù)置cr2o3的ni2al3涂層1000℃空氣中暴露20h后的氧化層表面形貌圖。
圖6為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的電泳預(yù)置cr2o3的ni2al3涂層1000℃空氣中暴露20h后的氧化層截面形貌圖。
圖7為與本發(fā)明一個(gè)比較例的ni2al3涂層1000℃空氣中暴露20h后的氧化層表面形貌圖。
圖8為與本發(fā)明一個(gè)比較例的ni2al3涂層1000℃空氣中暴露20h后的氧化層截面形貌圖。
圖9為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的電泳預(yù)置cr2o3的ni2al3涂層1000℃空氣中暴露1min、30min和1h后的光激發(fā)熒光譜。
圖10為與本發(fā)明一個(gè)比較例的ni2al3涂層1000℃空氣中暴露10min、30min、1h、2h和3h后的光激發(fā)熒光譜。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例詳述本發(fā)明。
實(shí)施例1
本實(shí)施例將以ni2al3涂層為基體,在其表面上預(yù)沉積一層cr2o3納米顆粒層,其制備與結(jié)果實(shí)例作詳細(xì)說明。
其中,本實(shí)施例在ni2al3涂層上預(yù)置一層cr2o3納米顆粒的流程為:
基材金屬采用ni2al3涂層—表面超聲清洗—在含納米cr2o3粉的電泳液中進(jìn)行電泳沉積—在ni2al3涂層表面預(yù)置一層cr2o3納米顆粒層(該納米顆粒層的厚 度為~3μm)。預(yù)置cr2o3納米顆粒層的制備關(guān)鍵是電泳時(shí)保持納米顆粒懸浮在槽液中,本實(shí)施例采用傳統(tǒng)的電泳設(shè)備來(lái)制備。具體如下:
取純度99.96wt%的電解ni板為基材,加工成15×10×2mm尺寸的小試樣,經(jīng)水磨砂紙磨至800#,在丙酮中超聲清洗,再采用傳統(tǒng)的包埋滲鋁工藝,在620℃,ar氣保護(hù)下制成~40μm的ni2al3涂層;
將ni2al3涂層在丙酮中超聲清洗,除去涂層表面的油污和雜質(zhì);
取平均粒度為80nm的納米cr2o3粉0.6g,將其浸泡在由200ml乙酰丙酮和0.06g碘單質(zhì)組成的的電泳液中,以便顆粒分散,避免團(tuán)聚;
每次電泳前通過超聲振動(dòng)使cr2o3顆粒充分懸浮在電泳液中,電泳液溫度為25℃,采用石墨陽(yáng)極,ni2al3涂層作為陰極,電場(chǎng)強(qiáng)度為15v/cm,每次電泳時(shí)間為6s。
在ni2al3涂層表面預(yù)置了一層3μm的cr2o3納米顆粒層,如圖1-圖2所示。沉積的cr2o3納米顆粒層疏松有大量的間隙,孔隙率的理論計(jì)算大概為50%~60%。
實(shí)施例2(1000℃氧化性能)
本實(shí)施例提供了ni2al3涂層和采用電泳的方法表面預(yù)置一層cr2o3納米顆粒層在ni2al3涂層在1000℃空氣中氧化20h后的性能和形貌(制備方法同上),并采用光激發(fā)熒光譜對(duì)兩者氧化初期氧化鋁膜的組成進(jìn)行了分析。
高溫氧化實(shí)驗(yàn)是采用thermocahn公司生產(chǎn)的型號(hào)為thermax700的tga儀器,升溫速率為30℃/min,1000℃保溫20小時(shí),然后隨爐冷卻。圖3為電泳預(yù)置cr2o3的ni2al3涂層和ni2al3涂層1000℃空氣中暴露20h的熱重分析(tga)動(dòng)力學(xué)曲線。由圖可知在ni2al3涂層表面預(yù)置一層cr2o3納米顆??梢燥@著降低ni2al3涂層的氧化增重。表面采用電泳預(yù)置處理后的ni2al3涂層的氧化增重為~0.17mg/mm2,是未預(yù)置處理的ni2al3涂層的氧化增重(~0.34mg/mm2)的一半。圖4兩種樣品的氧化增重的平方和時(shí)間曲線可知,未預(yù)置處理的ni2al3涂層在1000℃空氣中氧化可分為兩個(gè)階段。在~3h以前為氧化的初始階段,3h以后為穩(wěn)定氧化階段,計(jì)算所得的拋物線速率常數(shù)分別為~3.4×10-12g2/cm4·s和~1.0×10-12g2/cm4·s。而cr2o3表面預(yù)置處理后的ni2al3涂層在1000℃空氣中氧化可分為三個(gè)階段:初始氧化階段(<1h)、中間氧化階段(1h-3h)和穩(wěn)定氧化階段(>3h)。其拋物線速率常數(shù)分別為~6.4×10-12g2/cm4·s、~1.1×10-13g2/cm4·s和~2.3×10-13g2/cm4·s。 由此可知cr2o3表面預(yù)置處理可加快初始氧化階段向穩(wěn)定氧化階段的過度,并顯著提高ni2al3涂層抗高溫氧化的性能。
圖5為實(shí)施例cr2o3表面預(yù)置處理后的ni2al3涂層在1000℃空氣中氧化后的表面形貌像,氧化鋁膜表面形貌平整均一。圖6為其表面形貌像,氧化膜均勻完整,并且與基體結(jié)合緊密,之間無(wú)明顯的空洞。而圖7、圖8分別為對(duì)比例ni2al3涂層在1000℃空氣中氧化后的表面形貌像和截面形貌像,其表面為大量的針狀組織,氧化膜不完整,出現(xiàn)了剝落并且在氧化膜與基體的界面處出現(xiàn)了~3μm的空洞。
圖9為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的電泳預(yù)置cr2o3的ni2al3涂層1000℃空氣中暴露1min、30min、1h后的光激發(fā)熒光譜。表明經(jīng)電泳預(yù)置cr2o3的ni2al3涂層在氧化1min時(shí),氧化鋁膜中的al2o3全部為α-al2o3。圖10為與本發(fā)明一個(gè)比較例的ni2al3涂層1000℃空氣中暴露10min、30min、1h、2h和3h后的光激發(fā)熒光譜。在氧化10min和30min時(shí)氧化膜均由θ-al2o3組成,氧化1h時(shí)氧化膜由大部分θ-al2o3和微量的α-al2o3組成。氧化1h時(shí)為θ-al2o3向α-al2o3轉(zhuǎn)變的起始點(diǎn)。2h后氧化膜中α-al2o3增多,θ-al2o3相對(duì)減少。在3h時(shí),氧化膜中只有α-al2o3。表明在~3h完成了θ-al2o3向α-al2o3的轉(zhuǎn)變。在ni2al3涂層表面預(yù)置cr2o3納米顆??纱偈功?al2o3在氧化初期直接形成。
由于cr2o3具有和α-al2o3相同的剛玉結(jié)構(gòu),所以在氧化初期這些氧化物納米顆粒將作為α-al2o3的形核點(diǎn),α-al2o3將直接在其上生長(zhǎng)。直接生長(zhǎng)α-al2o3可加速形成一層致密的穩(wěn)定氧化鋁膜,促使氧化快速進(jìn)入穩(wěn)定氧化階段,與圖3所示的氧化動(dòng)力學(xué)結(jié)果相符。并且,減少了亞穩(wěn)定al2o3向穩(wěn)態(tài)al2o3轉(zhuǎn)變伴隨著~10%的體積收縮,增強(qiáng)了氧化膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度,與圖5-圖8的結(jié)果一致。
實(shí)施例結(jié)果表明,由于cr2o3、α-fe2o3、α-al2o3、ti2o3、yeo3或v2o3等顆粒具有和α-al2o3相同的剛玉結(jié)構(gòu),在低于1100℃空氣中氧化時(shí),氧化初期這些剛玉結(jié)構(gòu)的氧化物納米顆??勺鳛棣?al2o3的形核點(diǎn),促使α-al2o3直接形成,避免亞穩(wěn)定al2o3形成,跳過亞穩(wěn)定al2o3向穩(wěn)定態(tài)al2o3的轉(zhuǎn)變過程,從而顯著地提高了m-al金屬間化合物的抗高溫氧化性能和使用壽命。